不需要EUV光刻機了？外媒：中國從底層技術突破，封鎖副作用來了
如果我們在CEFT電晶體技術全面突破，那麼可以應用在14nm工藝製程的晶片上，就能夠呈現出7nm工藝製程的效果，這就能夠徹底擺脫EUV光刻機造出高階效能的晶片...
濃縮的都是精華：工藝製程對CPU效能的影響究竟有多大？
在實際製造CPU的過程中，精度更高意味著電晶體的“溝道長度”會越小，我們一般稱其為柵極線寬，就拿MosFET（金氧半場效電晶體）為例，其內部結構基本可以劃分為三個電極，即柵極、源極和漏極，其中柵極是控制電流的關鍵部位，並且是目前所能改動的唯...
比登天還難，製作晶片的難度遠比你想象的要大的多
我們知道現在最新的晶片已經達到了三奈米的製程，而每向前邁進一步，都會面臨著大量的晶片報廢，因為一個新的工藝，它的晶圓良率是很低的，只有在製作的過程中，不斷地完善製作的工藝，才會提高晶片的晶圓良率...
臺積電5nm代工價曝光：一片晶圓比7nm幾乎貴了一倍
比較極端的例子是，90nm的晶圓可是隻要1650美元，可真要做907億顆電晶體規模的晶片，單價需要2433美元...
晶片巨頭爭論背後，“摩爾定律”到底死沒死？｜鈦媒體深度
朱勇告訴鈦媒體App，SysMoore並非是顛覆或打破“摩爾定律”，而是新思科技看到時代和技術不斷變革、數字化程序的加速、AI 大資料應用，對於算力需求越來越變成萬億量級，整體效能訴求已經超過了單個工藝節點兩年翻一番的預測...
沒有高階光刻機，中國就造不出來晶片？碳基晶片能否彎道超車？
同時在材料方面，我們也有很大的突破，獨創使用碳奈米管來代替電晶體，可以不用先進的光刻機就可以生產出碳基晶片...
僅2.5奈米！工程師已製造出迄今最小的三維電晶體！
博科園-科學科普：正如本週在IEEE國際電子器件會議上發表的一篇論文所述：研究人員對最近發明的一種化學蝕刻技術進行了改進，稱為熱原子級蝕刻（thermal atomic level etching，簡稱熱ALE），以便在原子級上對半導體材料...
7奈米的麒麟980，研發歷程讓人驚歎
以上還只是介紹投入方面，但更為關鍵的是要克服技術難關，在麒麟970的時候，其整合的電晶體已經達到了驚人的55億，蘋果A10只有33億，而到了麒麟980，電晶體數量增加到了69億，我們知道更先進的製造工藝，可以帶來很多的優勢，例如主頻更高，能...
EPC Space 增加 40V 功率晶片
超低導通電阻電晶體針對關鍵星載和其他高可靠性環境中的電源轉換解決方案EPC Space 宣佈推出 EPC7019G，這是一款 40 V、4 mΩ、530 Apulsed 抗輻射 GaN 電晶體，與最接近的抗輻射 （RH） 矽 MOSFET ...
科學家提出單原子電晶體創造的新方法
利用這種方法，NIST領導的團隊成為世界上僅有的第二個構造單原子電晶體的研究人員，也是第一個製造出一系列單電子電晶體，並對器件的幾何形狀進行原子尺度控制的研究人員...
計算機發展歷史，早期是科學巨匠奉獻，當下是團體協作和集體智慧
積體電路時代計算機的發展1959年2月6日， 來自曾開發出第一臺電晶體收音機的TI公司的基爾比 向美國專利局申報專利“半導體積體電路”...
電晶體作為劃時代的發明，手機CPU中就有百億個，它的原理是什麼
1947年貝爾實驗室發表第一個以鍺半導體做成的點接觸電晶體，隨後肖克萊在理論上設計出了結型電晶體，結型電晶體能耗小、耐衝擊、耐震、壽命長久、製造廉價...
首個豎放電晶體計算機晶片問世，手機待機一週將成為可能
圖片來源：CONNIE ZHOU FOR IBM據《科學》訊息，美國萬國商業機器公司（IBM）和三星的研究人員已經制造出首個將電晶體豎立在兩端的計算機晶片原型，即垂直傳輸場效應電晶體...
三極體與可控矽的區別
可控矽三極體和可控矽有什麼區別1、定義不同三極體，全稱應為半導體三極體，也稱雙極型電晶體、晶體三極體，是一種控制電流的半導體器件...